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　　模拟计算

　　功函数(work function)又称功函、逸出功，在固体物理中被定义成：将固体中的电子移至其表面、并处于自由状态所需的最低能量。

　　功函数(work function)又称功函、逸出功，在固体物理中被定义成：将固体中的电子移至其表面、并处于自由状态所需的最低能量。

　　根据材料的不同可将功函数分为金属功函数与半导体功函数两种。不过，一般情况下功函数指的就是金属的功函数，非金属固体很少会用到功函数的定义，一般都是用接触势来表达。不过这里呢，我们还是跟大家简单介绍一下。金属功函数：费米能级Ef与真空中静止电子所处能级e0之差，即:Wm＝Ef-E0，其物理意义就是我们上面所写的定义。而半导体的功函数：半导体的费米能级Ef与真空中静止电子所处能级E0之差，其物理意义是：半导体中处于费米能级的电子跃迁到真空中所需要的最低能量。

　　推迟二极管方法是最简单和最古老的的测量功函数的方法之一。它是源自发射器电子的热发射。收集到样品的电子电流密度J取决于样品的功函数且可通过RichardsonDushman方程J=ATe计算，其中A，Richardson常数，是具体的材料常数。电流密度随温度迅速增长而随功函数指数下降。改变功函数可以简单通过在样品与电子发射器之间施加一个推迟势V来决定；上述方程中被e( +V)取代。在恒定电流下测到的推迟势差与功函数的改变相等，假设发射器的功函数与温度不变。

　　弹性常数描述了晶体对外加应变的响应的刚度。在材料的线性变形范围内（应变较小的情况下），体系的应力与应变满足胡克定律。

　　电荷密度差分（Charge density difference）是研究电子结构的重要手段之一。

　　Materials Studio是美国Accelrys公司生产的新一代材料计算软件，是专门为材料科学领域研究者开发的一款可运行在PC上的模拟软件。

　　电子局域函数(Electron Localization Function—ELF)是研究电子结构的手段之一。用来描述以某个位置处的电子为参考，在其附近找到与他同自旋的电子的概率，可以表征这个作为参考的电子的局域化程度，也是一种描述在多电子体系中的电子对概率的方法

　　麦克马斯特大学(McMaster University)的理查德·巴德(Richard Bader)发明了一种将分子分解为原子的直观方法。

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